A vékonyrétegű{0}}napelemek gyártási folyamata főként a következő lépésekből áll:
Aljzattisztítás (üveg/rugalmas anyagok);
Könnyű{0}}elnyelő réteg (például CdTe, CIGS vagy amorf szilícium, 1-3 mikrométer vastag) lerakása;
Elektróda bevonat (átlátszó vezetőréteg és hátsó elektróda);
Lézeres vágás (a cellaegységek felosztása);
Tokozás és tesztelés (nedvességvédelem, teljesítményellenőrzés).
Ok: A vékony{0}}filmes technológia kevesebb anyagot használ fel, mint a kristályos szilícium, így alkalmas nagy-felületű gyártásra, de hatékonysága valamivel alacsonyabb (10%-20%).
